AES(RFA)谱形分析及其在Mo-Si多层膜界面研究中的应用

AUGER LINESHAPE ANALYSIS AND THE APPLICATION FOR INVESTIGATION OF Mo-Si MULTIALYERS

应用减速场分析器（RFA）俄歇能谱仪得到直接谱N（E）－E，经计算机程序处理保存谱形方面的信息，并应用于软X射线光学Mo-Si多层膜介面的研究中。并说明经H＋离子轰击的界面谱形。

A leed optics is used to get the Auger spectral of N(E)-E. Auger lineshape analysis is used to investigate the interfaces of Mo-Si multilayers treated by H+ ion bombardment.