期刊文献+

Influence of UV illumination on track etching process

Influence of UV illumination on track etching process
下载PDF
导出
出处 《辐射研究与辐射工艺学报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第2期108-108,共1页 Journal of Radiation Research and Radiation Processing
基金 中国科学院上海应用物理研究所<人才引进项目>(90120432)资助
关键词 UV照明 离子跟踪 化学刻蚀 聚四氟乙烯 辐射化学 Ion track, UV illumination, Chemical etching
  • 相关文献

参考文献1

  • 1Apel P. Radiation Measurements, 2001, 34:559-566.

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部