EVG展出最新掩模对准曝光机EV6200 INFINITY

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摘要在晶圆键合光刻设备领域领先的EVG近日在SEMICON China 2005展出了其最新的EVG6200 Infinity掩模对准曝光机，该机可以在近距离对很厚的整个阻光层近距离曝光，是针对先进的封装市场而设计的，它可以通过升级安装底部显微镜，用于MEMS的双面曝光。在市场上所有200mm掩模对准曝光机中，这种新的曝光机是而积最小、产量最高的，光刻间隙的设定也是最精确的。

作者刘林发

出处《电子与封装》 2005年第4期46-47,共2页 Electronics & Packaging

关键词 INFINITY 曝光机掩模 INFINITY SEMICON China 光刻设备升级安装 MEMS 近距离阻光层显微镜市场晶圆封装

分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学] TP317.4 [自动化与计算机技术—计算机软件与理论]

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