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EV集团在SEMICON CHINA2005展出最新的掩模对准曝光机EV6200 INFINITY
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摘要
EVG在SEMICON CHINA2005展出了最新的掩模曝光机。EVC6200 Infinity掩模对准曝光机可以在近距离对很厚的整个阻光层近距离曝光,针对先进的封装市场而设计的。它可以通过升级,安装底部显微镜,用于MEMS的双面曝光。在市场上所有200mm淹没对准曝光机中,这种新的曝光机是面积最小的,产量是最高的,两次故障之间的无故障平均时间是最大的,光刻间隙的设定也是最精确的。
出处
《集成电路应用》
2005年第4期8-8,共1页
Application of IC
关键词
EV集团公司
“SEMICON
CHINA2005”展会
掩模曝光机
EV6200
INFINITY
性能
光刻
分类号
TN405.7 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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集成电路应用
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