IBM与MII共同开发纳米压印光刻介电材料

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摘要 IBM公司与Molecular Imprints Inc．(MII)正合作开发介电材料，以推动面向主流芯片制造的纳米压印光刻(nano—imprint lithography)技术的开发。这是MII联合创始人兼美国德州大学化学工程系教授Grant Wilson日前在SPIE微光刻研讨会上透露的。

出处《集成电路应用》 2005年第4期46-46,共1页 Application of IC

关键词 IBM公司 MII公司纳米压印光刻介电材料介电质

分类号 TN304 [电子电信—物理电子学]

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