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一种基于元胞自动机的显影模型

A Development Model of Electron Beam Resist Based on Cellular Automata
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摘要 本文利用元胞自动机的方法建立电子抗蚀剂显影模型,阐述了用该模型确立电子抗蚀剂显影后轮廓的方法,在结合相应的能量沉积模型和显影速率模型后,给出了电子抗蚀剂最终显影轮廓的模拟结果,并用ZEP520电子抗蚀剂进行实验验证。 An electron beam resist development model based on the Cellular Automata is proposed, The method of predicting the resist profile after development is described, The simulation results show perfectly agreement with the experiments of electron beam resist ZEP520.
作者 李泠 龙世兵 刘明 陈宝钦
机构地区 中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术研究室
出处 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 2005年第3期277-280,共4页 Microelectronics & Computer
基金 国家自然基金资助项目(60276019)
关键词 电子抗蚀剂 显影 元胞自动机 ZEP520 计算机模拟 Electron beam resist, Development, Cellular automata, ZEP 520, Computer simulation
分类号 TP15 [自动化与计算机技术—控制理论与控制工程]
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参考文献9

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微电子学与计算机
2005年 第3期

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