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XeBr XeCl激光同时振荡的研究

Study of the Dual Oscillation of XeBr and XeCl Laser
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摘要 本文报道了由HCl/HBr/Xe/Ne体系获得的XeBr与XeCl两种激光(282nm,308nm)同时振荡。对同时振荡的过程作了初步的分析,并在单独振荡的情况下研究了HCl对XeBr激光能量及寿命的影响与HBr对XeCl激光能量及寿命的影响。 A bi-wavelength laser oscillation at 282 nm and 308 nm in a mixture of HCl/HBr/Xe/Ne is reported. The process of the dual oscillation have been analyzied. A investigation is also made about the density influence on HCl on the energy and lifetime of XeBr laseras well as HBr on XeCl laser's.
出处 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 1994年第4期253-256,共4页 Chinese Journal of Lasers
基金 国家自然科学基金
关键词 同时振荡 激光器 溴化氙 氯化氙 dual oscillation,XeCl,XeBr
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参考文献2

  • 1马树森,中国激光,1985年,12卷,9期,521页
  • 2汤国庆,小分子光化学,1982年

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