用于超大规模集成电路的高纯度阴极喷镀钛靶
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2王敬义,何笑明,王宇,陶甫廷.反应溅射中的溅射产额研究[J].微细加工技术,2002(2):33-37. 被引量：4
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3马妮娜,余小敏,李家泽.激光诱导钛产生等离子体的光谱分析及电子温度的测量[J].光学技术,2005,31(5):796-798. 被引量：1
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4李玉同,张启仁,谷渝秋,尤永禄,杨上金,张杰,纪康宁,洪伟,赵永宽,张传飞.HIREFS谱仪在类氖钛软X射线激光中的应用[J].强激光与粒子束,1997,9(2):317-320. 被引量：1
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7张利伟,姚宁,鲁占灵,杨仕娥,樊志琴,张兵临.锐钛矿TiO_2薄膜的制备及其紫外光电导性能研究[J].半导体光电,2005,26(1):40-43. 被引量：3
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8聂君兰,谷坤明,汤皎宁.ECR结合磁控溅射——制备DLC薄膜的新方法[J].工具技术,2008,42(3):69-71.
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9杨勇,赵来,陈旭,查良镇,许生,范垂祯.中频反应溅射TiO_2时的Ti靶特性[J].真空科学与技术学报,2006,26(5):363-367. 被引量：2
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10金红石疏水薄膜的强化直流磁控溅射制备方法[J].表面技术,2006,35(4):47-47.
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