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更高分辨率的晶体成像技术

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摘要 最近发明了一个新的成像技术,能在0.1nm尺度以下观察材料,这个技术也许能使研究人员看到晶格中的单个杂质原子.现有的透射电子显微镜(TEM)不能分辨0.15nm以下的物体,比如晶格中的一个原子队列.Peter D.Nellist和其同事改造了一个TEM,得到了晶体硅的一个直接成像,能分辨出距离为0.078nm的硅原子对.文章作者写道,“这样高的分辨率应该能带来对材料性质的原子尺度的了解,可能会应用于材料、化学和纳米科学”.
出处 《物理与工程》 2005年第2期63-63,共1页 Physics and Engineering
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