用直流中空阴极放电方法 (DC HCD)生长的纳米级碳的氮化物薄膜研究(英文)
Investiagtion of Nanoscale Carbon Nitride Thin Films Grown Using DC HCD Hollow Cathode Discharge
出处
《光散射学报》
2005年第1期81-83,共3页
The Journal of Light Scattering
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