CH_4与N_2流量比对Ti（C，N）涂层性能的影响

采用物理化学气相沉积（ＰＣＶＤ）技术，在硬质合金上涂复Ｔｉ（ＣＮ１－ｘ）膜（０＜Ｘ＜１），测定了涂层厚度、显微硬度、粘结强度与反应气体中ＣＨ４／Ｎ２比值的关系。在本实验条件下，当ＣＨ４／Ｎ＝１：１时，涂层具有最佳综合性能和最大沉积速率。采用ｘ射线衍射（ＸＲＤ）、扫描电子显微镜（ＳＥＭ）及ｘ射线光电子谱（ＸＰＳ）技术，分析了涂层微观组织、表面形貌、化学成分及涂层／基体界面区微观形貌。在此基础上，就ＣＨ４／Ｎ２值、微观结构及性能间的关系进行了讨论。