Ge-SiO2薄膜的结构和光学特性研究

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摘要用射频共溅射技术和后退火的方法，制备出埋入SiO2基质中的Ge纳米晶复合膜(nc-Ge／SiO2)。通过拉曼散射、光致发光和透射电子显微镜等手段研究了该复合膜的光学特性和薄膜结构。

作者栾彩霞侯东华柴跃生张敏刚

机构地区太原重型机械学院太原重型机械学院太原重型机械学院

出处《材料导报》 EI CAS CSCD 2004年第F04期52-53,共2页 Materials Reports

关键词 Ge-SiO2薄膜特性研究透射电子显微镜 Ge纳米晶溅射技术拉曼散射薄膜结构光学特性光致发光复合膜

分类号 TB383 [一般工业技术—材料科学与工程] TN304.055 [电子电信—物理电子学]

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5王加贤,林正怀,张培,吴志军.纳米半导体复合薄膜的非线性光学性质及其在激光器中的应用[J].光学精密工程,2013,21(1):20-25. 被引量：3
6张兴旺,陈光华.非晶态Ge/SiO_2超晶格结构与特性[J].材料研究学报,1998,12(5):512-514. 被引量：1
7陈青云,孟川民,卢铁城,徐明,胡又文.中子嬗变掺杂前后Ge纳米晶的结构和性质[J].物理学报,2010,59(9):6473-6479.
8马智训,廖显伯,孔光临.纳米硅光学特性的研究[J].中国科学（A辑）,1999,29(7):625-631. 被引量：8
9马书懿,陈辉,萧勇,马自军,孙爱民.A comparative study of electroluminescence from Ge／SiO2 and Si／SiO2 films[J].Chinese Physics B,2004,13(2):264-267. 被引量：1
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