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ST与Hynix在无锡合建DRAM和NAND生产线

Joint-venture memory fab by ST and Hynix broke groud in Wuxi
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摘要 日前,意法半导体(ST)与海力士半导体(Hynix)在无锡的存储器芯片前端制造合资工厂破土动工,项目计划总投资20亿美元.该工厂将拥有8英寸和12英寸两条生产线,主要提供DRAM内存和NAND闪存产品.首批DRAM和NAND产品的容量分别为512Mb和4Gb~8Gb,2007年将能够供应1Gb的DRAM和8Gb~16Gb的NAND产品.
作者 王小庆
出处 《电子设计技术 EDN CHINA》 2005年第6期108-108,共1页 EDN CHINA
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