主动压力抛光光学磨镜设备的压力控制器
摘要
该专利是一种主动压力抛光光学磨镜设备的压力控制器。其特征是设置了一个作用于主动压力抛光盘的压力控制器。
出处
《科技开发动态》
2005年第4期48-48,共1页
R&D Information
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1一种主动压力抛光光学磨镜设备的压力控制器[J].机床电器,2005,32(4):63-63.
-
2戴兴国,古德生,吴爱祥.散体矿岩静压分析与计算[J].中南工业大学学报,1995,26(5):584-588. 被引量：6
-
3李阁强,张静伟,李跃松,周斌,马淑叶.操作机主运动机构液压控制系统力顺应性研究[J].系统仿真学报,2016,28(7):1538-1546. 被引量：2
-
4康静,左敦稳,朱永伟,孙玉利,周亮,李茂.采用冰结合剂抛光盘的温度场仿真[J].机械制造与自动化,2009,38(2):73-77.
-
5郑建明,任凤玉,唐烈先.西石门铁矿散体临界深度预测与地表陷落范围控制[J].采矿与安全工程学报,2014,31(4):631-634. 被引量：9
-
6胡晓珍,李伟.超精密双面抛光机结构的优化设计[J].制造技术与机床,2009(3):54-57. 被引量：9
-
7王楷,吕科,石为人,李江波.大口径光学抛光系统的气动压力控制[J].仪器仪表学报,2013,34(3):531-536. 被引量：8
-
8李海英,任凤玉,陈晓云,宫国慧.深部开采陷落范围的预测与控制方法[J].东北大学学报（自然科学版）,2012,33(11):1624-1627. 被引量：22
-
9龚志广,于江利,顾勇,张灿果.基于UC3637和IR2110的直流调速电路[J].河北建筑工程学院学报,2008,26(2):92-94. 被引量：1
-
10马纲,赵永武,顾坚.超精密CMP电化学抛光试验台关键部件的设计[J].润滑与密封,2010,35(11):107-110. 被引量：1
