期刊文献+

Fe/S/GaAs(100)界面形成研究

Interface Formation and Interaction of Fe on S-Passivated GaAs(100)
下载PDF
导出
摘要 为了改善界面费米能级钉扎,运用CH3CSNH2/NH4OH对GaAs(100)表面进行钝化,并对界面的形成过程进行研究。结果表明,经高温退火处理后,S在GaAS(100)表面以GaS的形式存在,没有形成化合物;研究了Fe生长过程中的成键特性和电子态,Fe淀积到S/GaAs(100)表面,引起0.5eV的能带弯曲,Fe与Ga、S发生较强的化学反应,而与As的反映被消弱。随着Fe覆盖度的增加,S原子停留在界面处,起到绝缘层的作用,而As和Ga则存在扩散和偏析现象,Fe在S/GaAs(100)表面以岛状形式生长。 We have studied the interface formation and electronic structure of an Fe overlayer deposited on S-passivated GaAs(100). In the first stage of deposition, Fe clusters were formed near S atoms. Compared to Fe/GaAs(100),the sulfur passivation weakens the reaction between As and Fe, which is beneficial to the magnetism at the interface. A magnetic ordering feature could be found at higher coverage due to large exchange splitting .
出处 《青岛大学学报(工程技术版)》 CAS 2005年第2期26-28,共3页 Journal of Qingdao University(Engineering & Technology Edition)
关键词 材料处理 薄膜 钝化 material treatment film passivation
  • 相关文献

参考文献3

  • 1Yablonovilch E, Sandroff C J,Bhat R, et al. Effects of Passivating Ionic Films on the Photoluminescence Properities of GaAs [J]. Appl Phys Lett, 1987, 51(24): 2022-2024.
  • 2Carpenter M S, Melloch M R, Lundstrom M S, et al. Effects of Na2S and (NH4)2 S Edge Passivation Treatments on the Dark Current- Voltage Characteristics of GaAs pn Diodes [J]. Appl Phys Lett, 1988, 52(25): 2157 -2159.
  • 3陆尔东,张发培,余小江,徐世红,徐法强,潘海斌,韩正甫,徐彭寿,张新夷.GaAs表面硫化学钝化,CH_3CSNH_2处理新探[J].物理学报,1997,46(5):1022-1027. 被引量:3

二级参考文献11

  • 1陆尔东,Appl Phys Lett,1996年,69卷,2282页
  • 2陆尔东,J Electron Spectro Related Phnom,1996年,80卷,181页
  • 3陆尔东,半导体学报,1996年,17卷,545页
  • 4陆尔东,物理学报,1996年,45卷,715页
  • 5Li Z S,J Appl Phys,1995年,78卷,2764页
  • 6Li Z S,Appl Phys Lett,1994年,64卷,3425页
  • 7Yu V,Appl Phys Lett,1994年,64卷,3458页
  • 8Lu Z H,Appl Phys Lett,1993年,62卷,2932页
  • 9钟战天,物理学报,1992年,41卷,683页
  • 10Yeh J J,Atomic Data Nucl Data Tab,1985年,32卷,1页

共引文献2

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部