期刊文献+

InGaAs/GaAs异质结构材料及器件应用

InGaAs/GaAs Heterostructures and Their Applications for HFETs
下载PDF
导出
摘要 概述了InGaAs/GaAs异质结构材料用于制作微波器件的优越性,叙述了材料的MBE生长、输运特性和掺杂分布,以及用于制作Ku波段低噪声高增益HFET的结果:栅长0.5μm,12GHz下噪声系数0.93dB,相关增益9dB。 This paper outlines the advantages of InGaAs/GaAs heterostructure transistors over GaAs MESFETs or HEMTs,and describes MBE growth technology,Hall effect and electrochemical C-V profiles.We have successfully developed low-noise highgain HFETs using InGaAs/GaAs heterostructure.The 0. 5 μm gate length HFETs with 0.93 dB noise figure and 9 dB associated gain at 12 GHz have been obtained.
出处 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1994年第3期205-208,共4页 Research & Progress of SSE
关键词 微波器件 异质结构 INGAAS/GAAS InGaAs/GaAs Heterostructure,MBE,Hall Effect,C-V Profile,HFETs
  • 相关文献

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部