期刊文献+

掺砷多晶硅在微波晶体管中的应用

The Application of Arsenic Doped Polycrystalline Silicon for Microwave Transistors
下载PDF
导出
摘要 报道了用低压化学汽相淀积生长掺砷多晶硅的实验结果。应用掺砷多晶硅作发射板材料,研制出C波段连续波输出功率大于3W的晶体管和L,P波段100W的脉冲功率晶体管。 Experimental growth results of arsenic doped polycrystalline silicon (As-DOPOS) films by low pressure chemical vapor deposition are presented.C band 3 W CW Si bipolar transistor and L and P bands 100 W silicon bipolar pulsed power transistors have been developed by utilizing the arsenic doped polycrystalline silicon for emitter region.
出处 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1994年第3期241-245,共5页 Research & Progress of SSE
关键词 掺砷多晶硅 双极晶体管 微波晶体管 As-DOPOS, Bipolar Transistor
  • 相关文献

参考文献1

共引文献1

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部