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快速原子层沉积法制成的金属氧化物/金属氮化物
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摘要
美国Genus公司开发出一种快速原子层沉积(RAD)技术,用该法可快速制造金属氧化物层和氮化物层,该项目受到导弹国防局的资助。在2002年夏天,该公司建立了一条ALD设备生产线及相关服务项目,名之为StraGem。
作者
杨英慧
出处
《现代材料动态》
2005年第7期16-16,共1页
Information of Advanced Materials
关键词
金属氧化物
金属氮化物
沉积法
制成
原子层沉积
2002年
氮化物层
快速制造
服务项目
生产线
ALD
公司
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
TM862 [电气工程—高电压与绝缘技术]
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现代材料动态
2005年 第7期
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