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半导体复合体系对表面活性剂及印染废水的光催化降解研究 被引量:8

Study on the Photo-catalytic Degradation of Surfactant and the Print-dyeing Wastewater by Semiconductor Compound System
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摘要 本文研究了半导体复合光催化体系ZnO—CuO对印染助剂十二烷基苯磺酸钠(LBS)和平平加O及实际印染废水的光降解处理。对于COD为830mg/1、色度为3027.5的印染废水,经光照4小时,脱色率达100%,COD去除率达80%。 A semiconductor compound system (ZnO-CuO) used for treating photo-cataly-tically the surfactants (LBS and Ping-ping-jia) and the print-dyeing wastewater is introduced. When the print-dyeing wastewater of COD concentration 830 mg/l and colour degree 3027.5 had been irradiated for 4 hours,the decolour rate and the COD removal rate reached 100% and 30% respectively.
机构地区 浙江大学化学系
出处 《环境污染与防治》 CAS CSSCI CSCD 北大核心 1994年第2期21-26,共6页 Environmental Pollution & Control
  • 相关文献

参考文献3

  • 1岳林海,樊邦棠.半导体复合体系光催化降解PVA研究[J].环境污染与防治,1992,14(3):5-8. 被引量:6
  • 2刘绍璞,吉方英,黄志桂.水中阴离子表面活性剂的吸光光度测定[J]环境化学,1988(05).
  • 3《环境污染与防治》一九八六年总目录[J]环境污染与防治,1986(06).

共引文献5

同被引文献75

引证文献8

二级引证文献133

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