湿式氧化法处理含氰废水——-Tomoya Matsubara，Tadashi Fukum．Eileen C．Bornardo，et al．The 10th APCChE Congress Kitakyusha，Japan，

为了提高电镀产品质量，在电镀工艺中大量采用氰化合物。由于氰化合物属剧毒物质。因此在电镀废水排放前需要有效的降解废水中的氰化合物。本研究采用间歇式高压釜研究了含氰废水的湿式氧化处理，并研究了氰化合物的初始浓度、pH、压力和温度等因素对本工艺降解氰化合物效率的影响。试验在不同温度(383—423K)、压力(0．1—2．0MPa)和初始氰质量浓度(100—5000mg／L)下进行，试验电镀废水样中分别含NaCN和Na，[Cu(CN)4]。结果表明，含NaCN的电镀废水中氰去除率随温度升高而提高，而与压力和氰的初始浓度无关。在温度423K、压力1．0MPa条件下，