期刊文献+

Fabrication and Characterization of Ni Thin Films Using Direct-Current Magnetron Sputtering 被引量:1

下载PDF
导出
出处 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2005年第8期2106-2108,共3页 中国物理快报(英文版)
  • 相关文献

参考文献11

  • 1Sandstrom P et al 1999 J. Crustal Growth 197 849.
  • 2Hanson M et al 1995 J. Magn. Magn. Mater. 140 701.
  • 3Hugo R C et al 2003 Acta Mater. 51 1937.
  • 4McCaffrey J P et al 1999 J. Crystal Growth 200 498.
  • 5Denis Y et al 2004 J. Appl. Phys. 95 6.
  • 6Marauardt D W 1963 J. Soc. Ind. Appl. Math. 11 431.
  • 7Henke B Let al 1993 Atomic Data and Nuclear Data Tables 54 181.
  • 8Stearns D G 1989 J. Appl. Phys. 65 491.
  • 9Banerieea Set al 2004 Appl. Phys. Lett. 84 3798.
  • 10Li X Y et al 1994 Chin Phys. Lett. 11 561.

同被引文献3

引证文献1

二级引证文献8

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部