离子束多层膜制备技术和应用(下)
出处
《机械工人（热加工）》
2005年第7期57-59,共3页
Machinist Metal Forming
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1朱美萍,易葵,范正修,邵建达.Influence of APS bias voltage on properties of HfO_2 and SiO_2 single layer deposited by plasma ion-assisted deposition[J].Chinese Optics Letters,2011,9(2):76-78. 被引量：1
-
2李婷,唐吉龙,方芳,房丹,方铉,楚学影,李金华,王菲,王晓华,魏志鹏.碳量子点的合成、性质及其应用[J].功能材料,2015,46(9):9012-9018. 被引量：26
-
3张文涛,朱保华,汪杰君,熊显名,黄雅琴.沟道效应作用下中性原子在激光驻波场中的沉积特性研究[J].物理学报,2013,62(24):136-140. 被引量：3
-
4陈晟,马艳,张萍萍,王建波,邓晓,肖盛炜,马蕊,李同保.Analysis of Cr atom focusing deposition properties in the double half Gaussian standing wave field[J].Chinese Physics B,2014,23(2):64-69.
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5陈刚,阎兴斌,刘惠文,徐洮.电化学沉积DLC和CN_x薄膜的微观形貌比较[J].电子显微学报,2004,23(4):430-430.
-
6金春水,林强,马月英,裴舒,曹健林.均匀软X射线多层膜制备方法研究[J].强激光与粒子束,2003,15(5):444-446. 被引量：7
-
7李明华,游顺青,刘洋,陈喜,董跃刚,于广华.NiFe/IrMn多层膜制备及MgO掺杂研究[J].功能材料,2012,43(11):1503-1505. 被引量：2
-
8宋莎莎,左潇,魏钰,陈龙威,舒兴胜.氢气稀释比例对多晶硅薄膜微观结构和沉积特性的影响[J].核聚变与等离子体物理,2014,34(3):275-281.
-
9侯惠君,李洪武,林松盛,朱霞高,林凯生,代明江.掺钨类金刚石膜的制备与性能研究[J].广东有色金属学报,2006,16(3):184-187. 被引量：5
-
10洪文鹏,齐琪.粗糙壁面流道内颗粒趋壁沉积特性的数值研究[J].中国电机工程学报,2016,36(S1):147-153. 被引量：3
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