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高速集成电路中高温超导连线技术研究

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摘要 本文研究了YBCO高温超导薄膜中原位溅射法生长优质膜的成膜技术,YBCO薄膜的Tco为90K,Jco(77K)为10^6A/cm^2;并建立了直流磁控溅射淀积速率的模型,还研究了微细加工形成超导薄膜导线的薄膜成形技术,在EDTA腐蚀法中,Tco仅下降1K,对超导特性影响下,本文着重研究了超导导线与高速集成电路的连续工艺,研制成功用高温超导连线的HCMOS集成电路。
出处 《上海微电子技术和应用》 1995年第2期13-18,共6页
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