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扫描电镜在多层布线技术中的应用

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摘要 论述了扫描电镜技术在VLSI多层布线技术中的应用。扫描电镜技术为层间介质膜的制备、介质膜表面平坦化及介质通孔的干法腐蚀结果,提供了清晰的照片,有效地指导了多层布线的工艺研究并获得了用于VLSI的最佳化多层布线工艺条件。
出处 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1995年第2期54-57,共4页 Semiconductor Technology
基金 "国家微电子材料与元器件微分析中心"开放课题
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