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立方氮化硼薄膜的研制
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摘要
研究了热灯丝射频等离子体化学气相沉积法立方氮化硼薄膜。实验结果表明,沉积条件对膜的质量及结构有重要的影响。在合适的条件下,可制备出优质的立方氮化硼薄膜材料。
作者
廖克俊
王万录
高锦英
机构地区
兰州大学物理系
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1995年第5期64-66,共3页
Semiconductor Technology
关键词
立方氮化硼
射频等离子体
沉积
薄膜
分类号
TN304.23 [电子电信—物理电子学]
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半导体技术
1995年 第5期
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