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SiC接触的电学和化学特性

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摘要 用化学和电学方法研究测定了6H-SiC与元素金属(Ni,Mo)和硅化物(MoSi_2,TaSi_2和TiSi_2)的接触特性。用俄歇电子光谱(AES)化学分析技术研究了由热处理引起的界面反应。在退火过程中,用电学测量方法(电流-电压和电容-电压)测量了整流特性或欧姆接触特性。并尽可能地计算了势垒高度及接触电阻值。
作者 李秀清
出处 《半导体情报》 1995年第5期43-47,共5页 Semiconductor Information
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