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SiC接触的电学和化学特性
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摘要
用化学和电学方法研究测定了6H-SiC与元素金属(Ni,Mo)和硅化物(MoSi_2,TaSi_2和TiSi_2)的接触特性。用俄歇电子光谱(AES)化学分析技术研究了由热处理引起的界面反应。在退火过程中,用电学测量方法(电流-电压和电容-电压)测量了整流特性或欧姆接触特性。并尽可能地计算了势垒高度及接触电阻值。
作者
李秀清
出处
《半导体情报》
1995年第5期43-47,共5页
Semiconductor Information
关键词
碳化硅
电接触
化学
电学
测量
分类号
TN304.24 [电子电信—物理电子学]
TN304.07 [电子电信—物理电子学]
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石富文,张工力,高耀龙,侯洵.
一种新型硬X射线光电阴极[J]
.光子学报,2001,30(9):1135-1137.
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SUN Chuan-wei WANG Yu-tai LI Nian-qiang.
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.Semiconductor Photonics and Technology,2007,13(2):161-163.
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陈维德,H.Bender,H.E.Maes.
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.Journal of Semiconductors,1990,11(6):441-447.
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半导体情报
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