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在β-SiC薄膜上热生长SiO_2薄膜的高频电容-电压特性
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摘要
研究了干和湿条件下,在β-SiC薄膜上生长的SiO_2薄膜。β-SiC薄膜异质外延是生长在正晶轴和与晶轴偏离2°的两种(001)硅衬底上。在10kHz~1MHz的范围内,测量了金属-氧化物-半导体结构的电容-电压和电导-电压特性。这些结果表明,对于偏晶轴样品,界面的陷阱密度和有效固定氧化物电荷密度,一般比正晶轴样品低一些。
作者
张闻
出处
《半导体情报》
1995年第5期48-53,共6页
Semiconductor Information
关键词
碳化硅
薄膜
生长
二氧化硅
高频电容电压
特性
分类号
TN304.24 [电子电信—物理电子学]
TN304.055 [电子电信—物理电子学]
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半导体情报
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