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MOCVD GaInP材料本底浓度及其掺Zn时组分的控制

Control of Background Concentration in GaInP and Composition in Zn-Doped GaInP Grown by MOCVD
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摘要 本文用MOCVD法研究了GaInP及其掺Zn材料的生长和特性,并进行了生长速率对生长动力学、Zn的掺杂效率、In的组分、表面形貌、电学性质的影响研究. Abstract The growth and characerization of undoped GaInP and Zn-doped GaInP are described, and the influence of growth rate on grwoth kinetics, Zn incorporation efficrency,In composition, surface morphology and electrical properties of Zn-doped GaInP grown by MOCVD are also presented.
出处 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第1期31-35,共5页 半导体学报(英文版)
关键词 掺杂 MOCVD GAINP 发光材料 Concentration (process) Semiconductor doping
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