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化学气相淀积(CVD)薄膜技术的新近发展及其应用
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摘要
化学气相淀积(CVD)由于其固有特点,做为一类操作简单,可以大批量低成本地提供大面积、高质量无机薄膜材料的实用化技术,近几年来出现若干新的发展,以适应现代科学技术领域发展的需要。本文拟就此状况进行综述评述。
作者
孟广耀
出处
《薄膜科学与技术》
1995年第3期273-273,共1页
关键词
薄膜
化学气相淀积
材料
分类号
TB43 [一般工业技术]
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薄膜科学与技术
1995年 第3期
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