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ITO膜生产技术的新进展
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摘要
用溅射的方法来制备ITO膜已应用于平板显示技术,特别是高速磁控溅射技术的出现,又使ITO膜实现大量生产成为可能。本文详细论述了ITO膜生产线的设计要点,总体方案及其技术性能,并分析了各种工艺参数对ITO膜的透光率、面电阻等主要技术指标的影响。
作者
姜燮昌
出处
《薄膜科学与技术》
1995年第3期272-272,共1页
关键词
ITO薄膜
薄膜
磁控溅射
分类号
TB43 [一般工业技术]
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