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热处理温度对NiFe薄膜磁电阻的影响 被引量:3

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摘要 本文用磁控溅射法制备了厚度20~200nm的NiFe合金薄膜。研究了热处理温度对NiFe薄膜电阻(电阻率)、各向异性磁电阻地和软磁性能的影响。适当温度下的热处理可以减小NiFe薄膜的电阻、增大其各向异性磁电阻比。
出处 《磁记录材料》 1995年第4期7-10,共4页 Magnetic Recording Materiais
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