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影响磁盘光刻图形质量的因素分析
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摘要
本文叙述了影响光刻伺服图形质量的各种因素,主要可分为磁盘光刻过程中半导体工艺产生的质量误差和机械定位不准产生的伺服图形偏心误差。
作者
罗敢
胡学骏
赫连娜
机构地区
华中理工大学
出处
《磁记录材料》
1995年第4期16-19,共4页
Magnetic Recording Materiais
关键词
磁盘
光刻图形
质量分析
分类号
TQ587.2 [化学工程—精细化工]
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磁记录材料
1995年 第4期
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