摘要
介绍了用改造直流四极磁控溅射台的方法研制ＺｎＯ薄膜的设备、工艺条件，及其对薄膜性能的影响。
The equipment of ZnO film, technical conditions and the influence on the film performance are presented by remaking D. C. sputtering stand of quart-pole magnetic control.
出处
《传感器技术》
CSCD
1995年第2期10-12,共3页
Journal of Transducer Technology
基金
国防科工委基金
