磁记录介质的现状与展望

本文回顾了磁记录介质的开发状况、介绍了目前粉末涂布磁带及硬盘介质的现状。前者研究开发的中心是薄层化或采用真空技术的薄膜化；后者的开发重点是以接近100A的极薄的Co－Cr系金属薄膜为主向纵向记录介质极限挑战的低噪声、高分辨率的垂直磁记录介质。未来，随着介质的低噪声化和制造技术的提高。