内部磁体型微溅射装置开发
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1一弓.直列型溅射装置[J].等离子体应用技术快报,1998(11):11-12.
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2一弓.溅射装置[J].等离子体应用技术快报,1997(11):11-11.
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3无.溅射装置及其驱动方法以及使用该装置制造基板的方法[J].表面技术,2009,38(1):50-50.
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4Ni81Fe19层厚对Ni81Fe19／Fe50Co50磁性和微结构影响[J].金属功能材料,2013,20(4):55-55.
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5薄膜沉积速度可调的溅射装置[J].金属功能材料,2011,18(3):49-49.
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6溅射装置[J].表面技术,2008,37(4):48-48.
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7王国田,马月英,曹健林.28.4nm和30.4nm波段的C/Si多层膜[J].光学仪器,1999,21(4):200-203. 被引量：2
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8陈林峰,程春晓.直流磁控溅射制备纳米TiO_2薄膜研究[J].洛阳理工学院学报（自然科学版）,2009,19(1):5-7.
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9王小平,刘援,李文祥,袁冠森,古宏伟,王晓华,刘安生.大面积YBCO超导薄膜沉积工艺[J].稀有金属,1998,22(6):457-459.
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10汪建华,袁润章,邬钦崇,任兆杏.X模耦合微波的ECR溅射装置的放电特性[J].华中理工大学学报,1998,26(8):53-55. 被引量：1
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