下一代强流离子注入装置的研制
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1一弓.高能中电流离子并联注入装置IH—860P[J].等离子体应用技术快报,1999(6):11-12.
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2王惠三.美国休斯实验室的大型PⅡ装置[J].等离子体应用技术快报,1997(10):10-12.
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3宇佐见康继,小池英已,田村丰一郎,仲田义广,吴明华.适应下一代器件用的强流离子注入机“IP—2500”[J].微细加工技术,1991(3):80-86.
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4Stog.,JP,云华.斯特拉斯堡核研究中心用于材料研究的新高能注入装置[J].国外核聚变与等离子体应用,1994(3):73-76.
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5蓉佳.脉冲强流离子团粒源[J].等离子体应用技术快报,1999(11):8-9.
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6卢新福,魏光辉,潘晓东.高频电磁注入替代辐照耦合装置的设计研究[J].军械工程学院学报,2012,24(6):23-26. 被引量：1
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7李宝忠,周辉,何金良,程引会,马良,李进玺,吴伟.非接触式脉冲电流注入系统研制[J].核电子学与探测技术,2010,30(10):1303-1306. 被引量：3
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8刘晓芝,孙利平,王应德,陈林.半导体离子注入用离子束加速管的聚焦特性[J].真空,2003,40(4):45-47.
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9杨庆,张建强.基于直接信号注入的反舰导弹攻防对抗仿真系统[J].舰船电子工程,2013,33(9):81-84. 被引量：1
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10陈林.LC-11型强流离子注入机晶片电荷积累效应分析[J].微细加工技术,1998(2):14-17. 被引量：2
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