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镀镍中的双性电极对套铬质量的危害
Defective Chromium Deposit Caused by Bipolarity Phenominon in Nickel Plating
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摘要
镀镍中的双性电极对套铬质量的危害罗耀宗,陈光秀(马来西亚宇辉实业有限公司)DefectiveChromiumDepositCausedbyBipolarityPhenominoninNickelPlating¥LUOYaozong;CHENGuang...
作者
罗耀宗
陈光秀
机构地区
马来西亚宇辉实业有限公司
出处
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
1995年第4期49-50,52,共3页
Electroplating & Finishing
关键词
电镀
镀镍
电极
质量
套铬
分类号
TQ153.12 [化学工程—电化学工业]
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电镀与涂饰
1995年 第4期
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