期刊文献+

镀镍中的双性电极对套铬质量的危害

Defective Chromium Deposit Caused by Bipolarity Phenominon in Nickel Plating
下载PDF
导出
摘要 镀镍中的双性电极对套铬质量的危害罗耀宗,陈光秀(马来西亚宇辉实业有限公司)DefectiveChromiumDepositCausedbyBipolarityPhenominoninNickelPlating¥LUOYaozong;CHENGuang...
出处 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 1995年第4期49-50,52,共3页 Electroplating & Finishing
  • 相关文献

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部