无显影气相光刻在大功率晶闸管元件生产中的应用

The Application of the DFVP to the Power Thyristor Manufacture

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摘要由于无显影气相光刻（ＤＦＶＰ）具有分辨率高、针孔密度低、光刻流程短、设备简单、成本低等优点，因此将其应用于晶闸管元件的生产具有非常重要的实际意义．本文在系统地研究ＤＦＶＰ机理的基础上，提出了新的配方，解决了刻蚀厚二氧化硅（ＳｉＯ２）层的关键技术问题。

作者王培清卢建平陈永麒

机构地区清华大学

出处《电力电子技术》 CSCD 北大核心 1995年第2期68-70,共3页 Power Electronics

基金国家自然科学基金

关键词晶闸管光刻氧化层无显影气相光刻

参考文献2

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电力电子技术

1995年第2期

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