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向千兆位拓进的光学光刻技术

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摘要向千兆位拓进的光学光刻技术Ｍ．ＤａｖｉｄＬｅｖｅｎｓｏｎ各种光刻技术的开发使ｉ线（３６５ｎｍ）和深紫外（ＤＵＶ）光学光刻技术的寿命大有希望延伸到亚半微米时代。这些新技术包括离轴照明、光学邻近效应校正、不同类型的移相掩模及其它方法。似乎还没有一种单独的...

作者陈英

出处《电子工业专用设备》 1995年第4期55-59,共5页 Equipment for Electronic Products Manufacturing

关键词光学光刻千兆位

分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学]

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电子工业专用设备

1995年第4期

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