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BG-101J型分步光刻机工艺考核报告
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摘要
BG-101J型分步光刻机工艺考核报告北京市半导体器件三厂刘友声为了促进军用电子器件开发研制,北京市半导体器件三厂与电子工业部四十五所密切合作,从九一年十月份开始,用电子部45所研制的军用电子专用设备BG-101J分步重复投影光刻机,共同完成国防科工...
作者
刘友声
机构地区
北京市半导体器件三厂
出处
《电子工业专用设备》
1995年第2期18-22,共5页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词
BG-101J型
分步光刻机
工艺
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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BG-101J型分步光刻机鉴定会检测报告[J]
.电子工业专用设备,1995,24(2):30-38.
2
BG-101J型分步光刻机实用化鉴定会检测大纲[J]
.电子工业专用设备,1995,24(2):28-29.
3
周得时.
BG-101J型分步光刻机实用化研究技术总结报告[J]
.电子工业专用设备,1995,24(2):5-17.
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周得时.
为研制我国自己的分步光刻机(DSW)而拼搏[J]
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5
田陆屏.
0.5μm分步光刻机关键参数测量与分析[J]
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周得时.
BG-101J分步光刻机在四十五所研制成功[J]
.电子工业专用设备,1991,20(3):69-70.
7
程建瑞.
分步光刻机的计算机控制[J]
.电子工业专用设备,1995,24(4):19-23.
8
吴耀才,陈旭南.
0.8—1微米分步重复投影光刻机研制[J]
.LSI制造与测试,1996,17(6):7-11.
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9
李志龙.
片簧式弹性导轨副微补偿台系统的动态特性分析[J]
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10
制版、光刻、腐蚀与掩模工艺[J]
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电子工业专用设备
1995年 第2期
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