期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
投影光刻物镜离焦工作状态分析
下载PDF
职称材料
导出
摘要
本文从投影光刻物镜的工作状态“离焦工作”出发,分析物镜离焦工作对光刻的影响,提出了相应的对策。
作者
李毅杰
机构地区
电子工业部第
出处
《电子工业专用设备》
1995年第4期16-18,共3页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词
投影光刻物镜
离焦工作
曝光机
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
引文网络
相关文献
节点文献
二级参考文献
0
参考文献
0
共引文献
0
同被引文献
0
引证文献
0
二级引证文献
0
1
Г.,ЭС,桑胜泉.
投影光刻物镜[J]
.LSI制造与测试,1989,10(5):44-48.
被引量:1
2
武世香,邹斌,陈士芳.
一种新型接触式双面对版曝光机[J]
.电子工业专用设备,1994,23(2):48-51.
被引量:2
3
李忠涛,王国荃.
电子束曝光机的电子束特徵测试[J]
.上海半导体,1989(3):26-28.
4
郑国强.
电子束直接曝光机简介[J]
.微细加工技术,1995(3):72-76.
被引量:1
5
徐鑫培.
用于光刻技术的物镜[J]
.上海光机,1989(2):10-14.
6
王国荃,罗腾蛟,陈福余,徐志如.
对一台先进电子束曝光机制作掩模过程的分析[J]
.微细加工技术,1992(1):1-6.
被引量:1
7
欧家忠.
满足HDI分辨率和对位度要求的曝光机[J]
.印制电路信息,2000(12):16-17.
8
罗蓉.
物联网的发展和应用研究[J]
.信息与电脑(理论版),2011(3):156-156.
被引量:6
9
张国强.
DF100A 100KW PSM发射机末前级电子管状态分析[J]
.信息通信,2016,29(3):286-287.
10
庄炳河.
DB—5型光栅扫描电子束曝光机真空系统[J]
.微细加工技术,1991(1):46-50.
被引量:1
电子工业专用设备
1995年 第4期
职称评审材料打包下载
相关作者
内容加载中请稍等...
相关机构
内容加载中请稍等...
相关主题
内容加载中请稍等...
浏览历史
内容加载中请稍等...
;
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部