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投影光刻物镜离焦工作状态分析

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摘要 本文从投影光刻物镜的工作状态“离焦工作”出发,分析物镜离焦工作对光刻的影响,提出了相应的对策。
作者 李毅杰
机构地区 电子工业部第
出处 《电子工业专用设备》 1995年第4期16-18,共3页 Equipment for Electronic Products Manufacturing
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