摘要
近年来半导体集成电路的高集成化取得明显进展.在1cm^2内具有900万个元件的4MDRAM已进入批量生产.因此,许多超净室都要对应亚微米的要求提高净化技术.半导体集成电路由于杂质污染会造成废品或降低可靠性.例如,电路走线宽为1.5~2μm级的集成电路,75%的废品都是由于进入杂质而引起.只要有走线宽度1/10大小的杂质进入,便会引起缺陷.4M DRAM的线宽最小达0.8μm,因此需要建立控制0.1μm以下超微粒子的技术.
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1989年第2期49-51,共3页
Semiconductor Technology