期刊文献+

工艺参数对氧化镍薄膜结晶结构的影响 被引量:2

The Influence of Technologic Parameters on crystal Structure of Nikel Oxide Thin Films
下载PDF
导出
摘要 用直流反应磁控溅射法制备了氧化镍电致变色薄膜,采用XRD和TEM对所制的薄膜结构进行了研究。详细讨论了制腹工艺参数对氧化镍薄膜晶态结构的影响。 Nickel oxide thin films were deposited by de reactive magnetron spu tring.XRDand TEM were used to study the crystal structure of nickel oxide films,And the influence of techni-cal parameters on crystal structure ot nickel tilms were discussed.
出处 《电子器件》 CAS 1995年第3期184-190,共7页 Chinese Journal of Electron Devices
  • 相关文献

同被引文献12

引证文献2

二级引证文献3

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部