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化学镀铜的现状与未来 被引量:4

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摘要 本文对用于印制线路板的导体形成和多层板内层处理等的化学镀铜液的组成和工作条件、反应机理、镀层的特性、快速镀以及非甲醛化等进行了评述。
作者 藤波知之
出处 《电子元件质量》 1995年第2期3-9,10,共8页
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