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应变(Ge)_5/(Si)_5超晶格的光学增益

OPTICAL GAIN OF STRAINED (Ge)_5/(Si)_5 SUPERLATTICE
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摘要 本文采用具有驰豫展宽的半导体激光器密度矩阵理论计算了(Ge)5/(Si)5超晶格的线性光增益和异质结激光器的国值电流密度,从理论上定量地比较了(Ge)5/(Si)5超晶格和GaAs体材料的线性光增益和阈值电流密度. The linear gain and the threshold current density of heterostructure laser are analyzed for(Ge)5/(Si),superlattice,based on the density-matrix theory of simeconductor laser with relaxation broadening.The quantitative comparison of the linear gain and thethreshold current density for (Ge)5/(Si)5 superlattice and GaAs bulk crystal is made theoretically.
出处 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第4期293-297,共5页 Chinese Journal of Luminescence
关键词 超晶格 光增益 锗5/硅5 应变 e)_5/(Si)_5 superlattice,Optical gain
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