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C轴取向AIN薄膜的强电特性分析

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摘要 本文报导了用直流平面磁控溅射法低温生长 C 轴择优取向 A1N 薄膜作介质、并构成Au-A1N-Au 结构的直流电导和击穿特性。用普尔-弗伦凯尔电导理论说明了这种薄膜直流电导的实验结果,并用统计分析方法得出这种薄膜的抗电强度实测平均值为3.4~3.9MV/cm,与理论计算结果相符合。此外,还得到这种薄膜的抗电强度随薄膜厚度的增加而减少的结果。
出处 《仪表材料》 EI CAS CSCD 1989年第6期343-346,342,共5页
  • 相关文献

参考文献3

  • 1曲喜新.氮化铝薄膜的进展(续)[J]电子元件与材料,1987(01).
  • 2曲喜新.氮化铝薄膜的进展[J]电子元件与材料,1985(04).
  • 3S. Bhat,S. Ashok,S. J. Fonash,L. Tongson}. Reactive ion beam deposition of aluminum nitride thin films[J] 1985,Journal of Electronic Materials(4):405~418

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