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光电位法评价铜缓蚀剂 被引量:3

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摘要 1 前言 用光电位法研究了铜电极在含有不同浓度缓蚀剂BTA或PTD的3%NaCl硼砂缓冲溶液(pH=9.2)中的腐蚀和缓蚀行为。溶液中不含或含有少量缓蚀剂时铜电极光响应逐渐地从P型转变为n型;当缓蚀剂达到一定量时,电极光响应保持P型。从P→n的转型时间Tt大小可以评价缓蚀剂的效果,实验表明,BTA的缓蚀效果优于PTD,与交流阻抗和椭圆偏振法的结果相符。光电位法是一种简便、有效、有发展前途的评价铜缓蚀剂的方法。
出处 《腐蚀与防护》 CAS 1995年第4期171-175,共5页 Corrosion & Protection
基金 国家自然科学基金资助项目
  • 相关文献

参考文献1

二级参考文献2

  • 1Liu X Y,J Electroanal Chem,1993年,361卷,265页
  • 2潘传智,物理化学学报,1993年,9卷,99页

共引文献16

同被引文献65

引证文献3

二级引证文献31

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