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反应溅射Al_2O_3薄膜研究之进展 被引量：3

Research Progress in Reactively Sputtered Al_2O_3 Film
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摘要 Ａｌ＿２Ｏ＿３，薄膜具有良好的光学特性，高的绝缘强度，良好的抗氧化腐蚀能力，越来越受到人们的普遍重视。本文对反应溅射Ａｌ＿２Ｏ＿３薄膜的沉积过程及其抗氧化腐蚀性能进行综合评述。 The deposition of Al_2O_3 film hasbecome increasingly important for the fabrication ofelectronic and optical devices,high temperatureoxidation and hot corrosion components. In thepresent paper,the research progress in this subjectWas reviewd.
作者 王福会 朱圣龙
机构地区 中国科学院金属腐蚀与防护研究所
出处 《功能材料》 EI CAS CSCD 1995年第5期413-416,共4页 Journal of Functional Materials
基金 国家青年基金 金属腐蚀与防护国家重点实验室的资助
关键词 反应溅射 薄膜 三氧化二铝 Readive Sputter,Al_2O_3 Film,Progress
分类号 TN305.92 [电子电信—物理电子学] TN304.055 [电子电信—物理电子学]
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引证文献3

二级引证文献26

功能材料
1995年 第5期

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