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蚀刻技术

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摘要本文着重叙述具有代表性的光蚀刻短波长化和超分辨率技术、以及电子束的高速化、X射线高精度化等最新蚀刻技术动向和最新技术课题.

作者吴秀丽

出处《光机电信息》 1995年第8期8-11,共4页 OME Information

关键词光刻蚀刻微电子学制造工艺

分类号 TN405.98 [电子电信—微电子学与固体电子学]

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光机电信息

1995年第8期

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