摘要
本文是对现阶段进行的超光滑表面浮光抛光研究的简要总结，介绍了浮法抛光原理样机的基本结构，以及实现亚纳米浮法抛光的主要条件，并给出了亚纳米级光滑表面的检测结果。
This paper is a summary about our current work on supersmooth surface by float polishing. The basic configuration of a prototype machine is described, and some parameters for polishing subnanometer-smooth surface are presented with the recent measurement results of surface roughness.
出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1995年第6期824-825,共2页
Acta Optica Sinica
基金
国家自然科学基金
